• Spezielles Spül-Ventil für CMP-Prozesse
• Verringert das Risiko von Prozessleitungs-Kontamination
Parker Hannifin präsentiert ein innovatives CMP-Ventil. Die präzise Funktion und das innovative Design des Ventils ermöglichen Platz- und Kosteneinsparungen gegenüber herkömmlichen Lösungen bei einem der Fertigungsprobleme in der Halbleiter Produktion - der Verdünnung von Poliermitteln, die für die chemisch-mechanische Planarisierung mit Hilfe von deionisiertem Wasser eingesetzt werden. | 
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Chemisch-mechanische Planarisierung - CMP - ist die heute bevorzugte Poliermethode für Halbleiter-Wafers. Es muss dabei sichergestellt werden, daß eine vollständige Trennung zwischen dem Poliermittel und dem deionisierten Wasser besteht, das zur Spülung des Zuführsystems verwendet wird. Eine Vermischung der beiden Medien führt zu einer Kontamination des Prozesses: Es entstehen höhere Kosten, da zusätzliches Poliermittel und deionisiertes Wasser verwendet werden müssen.
Das neue CMP-Ventil dosiert die Poliermittel-Lösung, sobald ein pneumatisches Betätigungssignal empfangen wird. Empfängt das Ventil ein Umschaltsignal, verschiebt sich die Spule zur Dosierung des deionisierten Wassers für die Systemspülung. Die Konstruktion des Ventils schließt eine Vermischung der beiden Medien bei der Betätigung des Ventils wie auch in der neutralen Position aus. Ein ausgeklügeltes Spulen- und Kavitäts-Design gewährleistet eine Mittelposition, in der das Poliermittel und das Wasser über selbst-abstreifende Parfluor O-Ringe auf der Spule voneinander isoliert werden. Diese selbst-reinigenden O-Ringe tragen auch zur langen Lebensdauer und zur Zuverlässigkeit des Ventils bei; wenn sich das Ventil zwischen der Polier- und Spülposition hin- und her bewegt, streifen sie über das präzisionsgedrehte PTFE-Bauteil.
Anders als bei herkömmlichen Lösungen könnte das CMP-Ventil an die Stelle von bis zu 3 Dreiwege-Ventilen, verschiedenen Armaturen und Rohrleitungen treten, was Kosten und Platz spart und die Toträume vermeidet, die in manchen herkömmlichen Poliermittel-Systemkonfigurationen zu finden sind.
Das zum Patent angemeldete Ventil wurde bei Parker im Geschäftsbereich Partek entwickelt. Es ist für einen Einsatz bei 2,7 Bar und einen Cv-Wert von 0,63 ausgelegt. Das Ventil besitzt 3/8 Zoll Flare-Anschlüsse an den Zu- und Abflussleitungen mit 1/4 Zoll Flare-Anschlüssen an den Rezirkulations-Leitungen (1/16 Zoll Innendurchmesser) und 1/4 Zoll NPT-Anschlüsse an den Luftzuleitungen.
Das CMP-Ventil ist ein zentrales Element in Parker‘s Produktangebot für alle Branchen, die Flüssigkeitssysteme, Armaturen, Membranventile, Faltenbalgventile, Zylinderverbindungen und Bulk-Gasventile für höchste Reinheitsanforderungen benötigen. Alle diese Komponenten werden von den Produktspezialisten der Europazentrale von Parker Hannifin Instrumentation Products in Barnstaple (Großbritannien) betreut. Ein Europaweites Händlernetz, in dem die Händler mit dem Werk über das weltweite elektronische Bestellsystem von Parker Hannifin verknüpft sind, gewährleistet beste Lagerhaltungs-Transparenz und schnelle Reaktion auf Anfragen.
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